北京大学
全球首个超薄铋基铁电晶体管问世,硬核为芯片突破“功耗墙”开辟新路径
在人工智能迅猛发展的北大清华今天,传统芯片架构正遭遇“功耗墙”与“存储墙”的让芯片更双重围堵——计算与存储分离导致海量数据搬运,能耗过大 、硬核效率受限。北大清华如何让芯片既快速又省电 ?让芯片更在线课堂互动技术北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队给出一项突破性答案 :他们成功研制出全球首个晶圆级超薄、均匀的新型铋基二维铁电氧化物,并基于此构建出工作电压超低(0.8伏)、耐久性极高(1.5×1012次循环)的高速铁电晶体管 ,其综合性能全面超越当前工业级铪基铁电体系 。相关成果日前在线发表于国际学术期刊《科学》。
彭海琳介绍 ,长久以来 ,铁电材料因其可逆极化与非易失存储特性,被视为打通存算一体 、突破冯·诺依曼架构(在冯·诺依曼架构下,计算和存储是相互分离的)瓶颈的关键 。然而 ,当芯片工艺逼近亚5纳米(小于5纳米)节点 ,传统铁电薄膜面临均匀性差 、教育SaaS系统界面缺陷多、厚度减薄后铁电性骤降等难题 。研究团队创新性依托其自主研发的高迁移率铋基二维半导体Bi2O2Se(硒氧化铋),首次实现了原子级平整的二维铁电自然氧化物Bi2SeO5(硒酸铋)及异质结构晶圆级均匀制备 。这种新型铁电氧化物不仅具有高达24的介电常数和超过600℃的高温结构稳定性,更在单晶胞厚度(约1纳米)下仍保持优异铁电性,彻底摆脱了传统铁电材料的尺寸限制。

二维高κ铁电氧化物α-Bi2SeO5的晶圆级均匀制备及铁电性。
在此基础上,研究团队还制备出高性能铁电晶体管阵列,能效领先其他存储技术1至2个数量级 ,并展现出32个稳定多级存储态与超10年数据保持能力。尤为亮眼的是,在0.8伏超低电压和20纳秒高速写入条件下,教育直播技术器件经受住1.5万亿次循环考验 ,可靠性远超云端AI计算的严苛标准 。更进一步 ,团队利用该器件构建出可动态重构的存内逻辑电路——在低于1伏的常规CMOS电压下,同一器件既能执行逻辑运算 ,又能切换为非易失存储,真正实现“一器两用” ,为未来自适应智能芯片开辟了新范式。

二维α-Bi2SeO5/Bi2O2Se铁电晶体管器件及性能 。
审稿人评价 ,该工作“解决了二维铁电材料晶圆级集成难题,彰显出显著的应用潜力” ,并“对铁电材料和器件领域产生深远影响,为铁电二维电子学发展打开了大门” 。AI在教育中的应用

低功耗二维α-Bi2SeO5/Bi2O2Se铁电晶体管基可重构的存内逻辑电路。
“这项原创成果为发展下一代高性能